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超音波金属粉末製造装置は、超音波アトマイズ技術の具体的な応用です

高球形度・狭い粒度分布を有する金属粉末を製造するための超音波霧化装置。

1. 優れた粉末形状
高周波振動により、均一な粒子径と最小限の酸化を伴う球状液滴を生成。

2. 広範な材料対応性
インジウム、アルミニウム、銅、チタンなど、低〜中融点金属を処理可能。

3. 完全なシステム統合
ジェネレーター、トランスデューサー、ホーン、および原子化ヘッドが連携して、正確で再現性の高い結果を実現します。

概要
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製品説明

高品質のはんだ粉末は、はんだ付けの安定性と信頼性を確保します。

基本情報

意味 : はんだ粉末とはんだペーストの主成分であり、錫（すず）、鉛、銀、銅などの金属元素を特殊な技術で処理した金属粉末です。表面実装技術(SMT)において使用されます。

機能主にはんだペーストを準備するために使用されます。電子産業においては、チップや抵抗器、コンデンサなどの電子部品をプリント基板（PCB）に接続し、電子機器の電気的接続および機械的な固定を確実にするものです。

製品詳細

無鉛超微粉末は、金属ペースト、洗浄不要はんだ付け、多孔質自動潤滑ブロンズ軸受、粉末冶金およびその他の産業分野で広く使用されています。電子・電気産業の急速な発展に伴い、新しいはんだ材、接点材料、電子パドルなどにより、超微細錫粉末の幅広い応用市場が提供されています。生産実績の観点から見ると、多くのはんだ粉末製造プロセスの中でアトマイズ法（噴霧法）が現在主流のはんだ粉末調製方法です。アトマイズ法には主に3種類あり、ガスアトマイゼーション法、回転円盤遠心アトマイゼーション法、超音波振動アトマイゼーション法があります。表面実装技術が狭ピッチ、高密度、高精度、多機能化、洗浄不要、無鉛化の方向へと進展するにつれ、はんだ粉末の粒子半径は20μm未満、あるいは10μm以下となり、形状も不定形から球形へと変化し、同時に表面酸化を抑える性能が向上しています。狭い粒径分布への要求は、はんだ粉末調製技術に対してますます高度化しています。ガスアトマイゼーション法および回転円盤遠心アトマイゼーション法という二つのアトマイズプロセスと比較して、超音波振動アトマイゼーション法によって製造されるはんだ粉末は球形度が最も高く、粉末の粒径分布が狭く、酸素含有量が最も低い特徴を持っています。HCSONIC社が独自開発した超音波金属アトマイズプロセスは、融点が300°C以下の各種のはんだ合金粉末を安定して製造することが可能です。この方法では高い球形度、狭い粒径分布、制御可能な粒子径、そして単一粒子径での高い収率を実現しており、現在の錫粉末産業の応用において理想的な製品となっています。

応用分野

電子機器分野ははんだ粉末がもっとも使用される産業です。現在、スマートフォンやノートパソコンの業界で主に使用されているペーストは、依然としてT3およびT4粒径のはんだ粉末を必要としています。世界中のはんだ粉末使用量の約80%はこの2種類に集中しています。さらに、電子部品の微細化と間隔の継続的な狭小化に伴い、T5、T6、T7のはんだ粉末の使用量は徐々に増加しています。超微粉末（T6／T7／T8）の応用は、今後のはんだ粉末開発における必要方向となる可能性があります。

はんだペースト検査・分析報告書

1.サンプル状況：
200メッシュはんだ粉末：5049.8g；
325メッシュはんだ粉末：808.4g；
合計：5858.2g

200メッシュはんだ粉末：
検査結果は以下の通りです：
酸素含有量：173ppm
外観：球形度が高く、少量の繊維状粉末が混在